Correlation of residual impurity concentration and acceptor electron paramagnetic resonance linewidth in isotopically engineered Si

A. R. Stegner, H. Tezuka, H. Riemann, N. V. Abrosimov, P. Becker, H. J. Pohl, M. L.W. Thewalt, K. M. Itoh, M. S. Brandt

研究成果: Article査読

4 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Correlation of residual impurity concentration and acceptor electron paramagnetic resonance linewidth in isotopically engineered Si」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Physics & Astronomy