Fabrication of valley photonic crystals with CMOS-compatible process

Takuto Yamaguchi, Hironobu Yoshimi, Miyoshi Seki, Minoru Ohtsuka, Nobuyuki Yokoyama, Yasutomo Ota, Makoto Okano, Satoshi Iwamoto

研究成果: Conference contribution

抄録

We demonstrated the fabrication of silicon valley photonic crystal structures with triangular air holes by using photolithography for the first time. The mask patterns we newly designed enable the formation of triangular air holes with reasonably high accuracy. This is an important step toward CMOS-compatible topological nanophotonics.

本文言語English
ホスト出版物のタイトル26th Microoptics Conference, MOC 2021
出版社Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
ISBN(電子版)9784863487758
DOI
出版ステータスPublished - 2021
イベント26th Microoptics Conference, MOC 2021 - Virtual, Online, Japan
継続期間: 2021 9月 262021 9月 29

出版物シリーズ

名前26th Microoptics Conference, MOC 2021

Conference

Conference26th Microoptics Conference, MOC 2021
国/地域Japan
CityVirtual, Online
Period21/9/2621/9/29

ASJC Scopus subject areas

  • 分光学
  • エネルギー工学および電力技術
  • 電子工学および電気工学
  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 器械工学
  • 原子分子物理学および光学

フィンガープリント

「Fabrication of valley photonic crystals with CMOS-compatible process」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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