Functional design of a pulsed two-frequency capacitively coupled plasma in CF 4/Ar for SiO 2 etching

Kazunobu Maeshige, Gentaro Washio, Takashi Yagisawa, Toshiaki Makabe

研究成果: Article査読

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フィンガープリント

「Functional design of a pulsed two-frequency capacitively coupled plasma in CF 4/Ar for SiO 2 etching」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Physics & Astronomy