Ge L3-edge x-ray absorption near-edge structure study of structural changes accompanying conductivity drift in the amorphous phase of Ge2Sb2Te5

K. V. Mitrofanov, A. V. Kolobov, P. Fons, X. Wang, J. Tominaga, Y. Tamenori, T. Uruga, N. Ciocchini, D. Ielmini

研究成果: Article査読

30 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「Ge L<sub>3</sub>-edge x-ray absorption near-edge structure study of structural changes accompanying conductivity drift in the amorphous phase of Ge<sub>2</sub>Sb<sub>2</sub>Te<sub>5</sub>」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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