In situ AP-XPS analysis of a Pt thin-film sensor for highly sensitive H2detection

Ryo Toyoshima, Takahisa Tanaka, Taro Kato, Ken Uchida, Hiroshi Kondoh

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抄録

In situ ambient-pressure X-ray photoelectron spectroscopy (AP-XPS) combined with resistivity measurement was performed for a Pt thin-film H2 gas sensor. We experimentally demonstrate that the chemical state of the Pt surface changes under working conditions, and it directly links to the sensing performance. Moreover, the operating principle is discussed at the atomic scale.

本文言語English
ページ(範囲)10147-10150
ページ数4
ジャーナルChemical Communications
56
70
DOI
出版ステータスPublished - 2020 9月 11

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フィンガープリント

「In situ AP-XPS analysis of a Pt thin-film sensor for highly sensitive H2detection」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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