Low-crosstalk offset crossing waveguide fabricated on SOI substrates

D. Tanaka, Y. Shoji, K. Kintaka, H. Kawashima, Y. Ikuma, H. Tsuda

    研究成果: Conference contribution

    3 被引用数 (Scopus)

    抄録

    The offset crossing waveguide was proposed and fabricated on silicon-on-insulator (SOI) substrates. We successfully achieved the low-crosstalk offset crossing waveguide which had a crosstalk of less than -50 dB.

    本文言語English
    ホスト出版物のタイトルTechnical Digest - 15th OptoElectronics and Communications Conference, OECC2010
    ページ870-871
    ページ数2
    出版ステータスPublished - 2010 11 29
    イベント15th OptoElectronics and Communications Conference, OECC2010 - Sapporo, Japan
    継続期間: 2010 7 52010 7 9

    出版物シリーズ

    名前Technical Digest - 15th OptoElectronics and Communications Conference, OECC2010

    Other

    Other15th OptoElectronics and Communications Conference, OECC2010
    国/地域Japan
    CitySapporo
    Period10/7/510/7/9

    ASJC Scopus subject areas

    • 電子工学および電気工学

    フィンガープリント

    「Low-crosstalk offset crossing waveguide fabricated on SOI substrates」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

    引用スタイル