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研究成果
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Modeling of dc magnetron plasma for sputtering: Transport of sputtered copper atoms
T. Yagisawa, T. Makabe
常任理事
研究成果
:
Article
›
査読
11
被引用数 (Scopus)
概要
フィンガープリント
フィンガープリント
「Modeling of dc magnetron plasma for sputtering: Transport of sputtered copper atoms」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Engineering & Materials Science
Sputtering
100%
Atoms
80%
Plasmas
71%
Ions
71%
Copper
63%
Fluxes
38%
Electrons
31%
Erosion
31%
Gases
26%
Spatial distribution
17%
Velocity distribution
17%
Relaxation
14%
Magnetic fields
13%
Substrates
11%
Chemical Compounds
Copper Atom
90%
Sputtering
84%
Plasma
48%
Collision
31%
Ion
30%
Gas
24%
Energy
22%
Electron Particle
16%
Monte Carlo Method
16%
Magnetic Field
14%
Velocity
13%
Time
5%
Physics & Astronomy
sputtering
61%
copper
55%
atoms
39%
erosion
21%
vapor phases
17%
ion injection
16%
ions
15%
collisions
14%
light ions
13%
profiles
12%
particle energy
11%
energy
9%
spatial distribution
9%
electrons
9%
velocity distribution
8%
continuums
8%
cells
6%
gases
5%
magnetic fields
5%