Nano-structure Ge formed in thin film SiO2 using ion implantation

J. R. Phillips, Olof C. Hellman, N. Kobayashi, Yunosuke Makita, Hajime Shibata, A. Yamada, P. Fons, Yushin Tsai, Shigeru Niki, Masataka Hasegawa, Tsutomu Iida

研究成果: Conference contribution

6 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Nano-structure Ge formed in thin film SiO2 using ion implantation」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Engineering & Materials Science

Chemical Compounds

Physics & Astronomy