Optical emission spectroscopy as a process control tool during plasma enhanced chemical vapor deposition of microcrystalline silicon thin films

C. C. Du, T. C. Wei, C. H. Chang, S. L. Lee, M. W. Liang, J. R. Huang, C. H. Wu, A. Shirakura, R. Morisawa, T. Suzuki

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フィンガープリント

「Optical emission spectroscopy as a process control tool during plasma enhanced chemical vapor deposition of microcrystalline silicon thin films」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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