Prediction of organic low-k material etching in two frequency capacitively coupled plasma

K. Ishihara, T. Shimada, T. Yagisawa, T. Makabe

研究成果: Article査読

11 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「Prediction of organic low-k material etching in two frequency capacitively coupled plasma」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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