Removal of surface oxide layer from silicon nanocrystals by hydrogen fluoride vapor etching

Yoshifumi Nakamine, Tetsuo Kodera, Ken Uchida, Shunri Oda

研究成果: Article査読

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フィンガープリント

「Removal of surface oxide layer from silicon nanocrystals by hydrogen fluoride vapor etching」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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