Self-diffusion of Si in thermally grown SiO2 under equilibrium conditions

Tomonori Takahashi, Shigeto Fukatsu, Kohei M. Itoh, Masashi Uematsu, Akira Fujiwara, Hiroyuki Kageshima, Yasuo Takahashi, Kenji Shiraishi

研究成果: Article査読

71 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Self-diffusion of Si in thermally grown SiO<sub>2</sub> under equilibrium conditions」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Physics & Astronomy