Self-diffusion of Si in thermally grown SiO2 under equilibrium conditions

Tomonori Takahashi, Shigeto Fukatsu, Kohei M. Itoh, Masashi Uematsu, Akira Fujiwara, Hiroyuki Kageshima, Yasuo Takahashi, Kenji Shiraishi

研究成果: Article

66 引用 (Scopus)

フィンガープリント Self-diffusion of Si in thermally grown SiO<sub>2</sub> under equilibrium conditions' の研究トピックを掘り下げます。これらはともに一意のフィンガープリントを構成します。

Physics & Astronomy