Simulations of rf glow discharges in SF6 by the relaxation continuum model: Physical structure and function of the narrow-gap reactive-ion etcher

Nobuhiko Nakano, Naohiko Shimura, Zoran Lj Petrović, Toshiaki Makabe

研究成果: Article査読

106 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Simulations of rf glow discharges in SF6 by the relaxation continuum model: Physical structure and function of the narrow-gap reactive-ion etcher」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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Physics & Astronomy