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Study of the structure in rf glow discharges in SiH
4
/H
2
by spatiotemporal optical emission spectroscopy: Influence of negative ions
Fumiyoshi Tochikubo, Akira Suzuki, Shigeru Kakuta, Yuko Terazono, Toshiaki Makabe
常任理事
研究成果
:
Article
›
査読
67
被引用数 (Scopus)
概要
フィンガープリント
フィンガープリント
「Study of the structure in rf glow discharges in SiH<sub>4</sub>/H <sub>2</sub> by spatiotemporal optical emission spectroscopy: Influence of negative ions」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Physics & Astronomy
optical emission spectroscopy
negative ions
glow discharges
electron attachment
positive ions
electrons
excitation
modulation
plasma sheaths
radiative lifetime
silanes
light emission
bombardment
amorphous silicon
radio frequencies
low frequencies
thresholds
energy
profiles
ions