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Study of the structure in rf glow discharges in SiH
4
/H
2
by spatiotemporal optical emission spectroscopy: Influence of negative ions
Fumiyoshi Tochikubo, Akira Suzuki, Shigeru Kakuta, Yuko Terazono, Toshiaki Makabe
常任理事
研究成果
:
Article
›
査読
68
被引用数 (Scopus)
概要
フィンガープリント
フィンガープリント
「Study of the structure in rf glow discharges in SiH
4
/H
2
by spatiotemporal optical emission spectroscopy: Influence of negative ions」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Physics & Astronomy
optical emission spectroscopy
100%
negative ions
90%
glow discharges
87%
electron attachment
43%
positive ions
37%
electrons
36%
excitation
33%
modulation
23%
plasma sheaths
22%
radiative lifetime
20%
silanes
18%
bombardment
16%
light emission
16%
amorphous silicon
16%
radio frequencies
15%
low frequencies
12%
thresholds
10%
energy
10%
profiles
9%
ions
8%