Suppression of surface segregation of the phosphorous δ-doping layer by insertion of an ultra-thin silicon layer for ultra-shallow Ohmic contacts on n-type germanium

Michihiro Yamada, Kentarou Sawano, Masashi Uematsu, Kohei M. Itoh

研究成果: Article査読

22 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「Suppression of surface segregation of the phosphorous δ-doping layer by insertion of an ultra-thin silicon layer for ultra-shallow Ohmic contacts on n-type germanium」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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