Temporal characteristics of net excitation rates in inductively coupled plasma in Ar and CF4 by one-dimensional relaxation continuum modeling

Kou Hou, Shinji Nakagarni, Toshiaki Makabe

研究成果: Conference article査読

4 被引用数 (Scopus)

抄録

Plasma structure in an inductively coupled plasma reactor is numerically investigated in electropositive Ar and electronegative CF4 under the lowest sustaining condition. In the case of Ar, the discharge is maintained under the influence of an azimuthal electric field, whilst the CF4 plasma is electrostatically sustained by a radial field under the presence of negative ions F-.

本文言語English
ページ(範囲)239-242
ページ数4
ジャーナルThin Solid Films
386
2
DOI
出版ステータスPublished - 2001 5月 15
イベント12th Symposium on Plasma Science for Materials - Tokyo, Japan
継続期間: 2001 6月 162001 6月 17

ASJC Scopus subject areas

  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 表面および界面
  • 表面、皮膜および薄膜
  • 金属および合金
  • 材料化学

フィンガープリント

「Temporal characteristics of net excitation rates in inductively coupled plasma in Ar and CF4 by one-dimensional relaxation continuum modeling」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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