The effect of topographical local charging on the etching of deep-submicron structures in SiO2 as a function of aspect ratio

Jun Matsui, Nobuhiko Nakano, Zoran Lj Petrović, Toshiaki Makabe

研究成果: Article査読

80 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「The effect of topographical local charging on the etching of deep-submicron structures in SiO2 as a function of aspect ratio」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Physics & Astronomy